半导体超纯水设备技术与维护解析 |
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超纯水设备是可以完全去除水中的导电介质，以可以将水中的有机物质、不溶解的胶体物质和其化杂质去除的高性能水处理设备。在半导体材料、蓄电池、线路板等电子行业应用的非常广泛。本文将主要介绍半导体超纯水设备工艺流程、技术优势与维护清洗。 半导体超纯水设备工艺流程
半导体超纯水设备由反渗透设备与EDI设备相结合，是一种环保、经济、发展潜力巨大的最新超纯水制备工艺。 工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 半导体超纯水设备各系统技术优势 我公司的半导体超纯水设备符合国家标准水质要求，能满足客户的不同需求。 1、介质过滤器：由优质不锈钢材料制作而成，可去除源水中的悬浮物。设备设有气体冲刷功能，能最大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。 2、活性碳过滤器：由优质不锈钢材料制作而成，可以去除水中的游离余氯、除臭、除油、去色、吸附有机物杂质,保证反渗透膜的进水水质。 3、RO主机：采用先进的反渗透技术，利用压力差原理去除水中的盐类，设备的脱盐率可达到99%左右。 4、水质：水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)。 5、材质：主要有不锈钢、炭钢和有机玻璃钢。 6、流量(m3/h)：0.1-500。 半导体超纯水设备维护与清洗 半导体超纯水设备由于生产的波动，不可避免地经常要短期或长期停运，所以必须采取保护措施，防止反渗透膜性能下降。 1、反渗透设备停运保护 反渗透经常停运，是因为生产中产生波动，波动期间必须采取保护措施，波动中不适当地处理会导致膜性能下降。 (1)停运15d以下的系统是短期保存，保护反渗透设备方法可采用每1～3d低压冲洗方式。 (2)停运15d以上的系统是长期停用保护，反渗透装置进行保护时必须用保护液(杀菌剂)充入净水设备。 2、反渗透膜化学清洗 在设备运行过程中反渗透装置可能会出现脱盐率下降、出水力下降、压差升高，甚至对膜造成不可恢复的损伤。这是因为反渗透膜有可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，因此，为了恢复良好的透水和除盐性能，需要对膜进行化学清洗，一般为3～12个月清洗一次。 |
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